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平衡状態外にある人工集光複合体の極低温TEMイメージング

Oct 23, 2023Oct 23, 2023

Scientific Reports volume 12、記事番号: 5552 (2022) この記事を引用

1297 アクセス

1 引用

7 オルトメトリック

メトリクスの詳細

自然の集光複合体におけるエネルギー輸送は、自己組織化された超分子構造を介して実験室条件で調査できます。 このような構造の 1 つは両親媒性色素 C8S3 分子から生じ、この分子は水性媒体中で自己集合して、緑色硫黄細菌に見られる天然の集光複合体を思わせる二重壁円筒状ナノチューブになります。 この論文では、マイクロ流体設定で外側のナノチューブ (NT) を溶解することにより、内側のナノチューブ (NT) のみの構造を調査する方法を報告します。 得られた熱力学的に不安定な系を急速凍結させて、溶解した分子から外側のNTが再集合するのを防ぎ、極低温透過型電子顕微鏡(cryo-TEM)を使用して画像化した。 実験的なクライオ TEM 画像と分子構造は、C8S3 NT の分子モデリングに基づいた高解像度 TEM 画像をシミュレートすることによって比較されました。 フラッシュ希釈プロセス中に外壁が除去された内側のNTは、親の二重壁NTと同様のサイズであることがわかりました。 さらに、フラッシュ希釈後の内部 NT には構造的不均一性は観察されませんでした。 これにより、外部NTの再集合が起こる前に内部NTを機能化するという刺激的な可能性が開かれ、他の自己集合ナノ構造の内部構造を改変するために広く拡張することができる。

自然界では、強い分子間結合を持つ集光複合体は、反応中心への励起エネルギーの輸送を促進することにより、光合成のプロセスにおいて重要な役割を果たしています1,2。 エネルギー輸送プロセスをより深く理解するために、自然システムは、より単純で制御可能な人工システムによって広範囲にモデル化されてきました 3,4。 これらの中でも、水性環境で両親媒性 C8S3 分子 (図 1A) から自己集合する二重壁ナノチューブ (DWNT) 5,6 は、緑色硫黄細菌に見られるクロロソームと強い構造類似性を持っているため、特に興味深いものです 7,8。 9、薄暗い環境での光合成に最適化されています8。 C8S3 DWNT システムは、内部および外部の超分子円筒構造に組織化された強く結合した発色団で構成されており (図 1B、左挿入図)、これがシステムの光学特性に重大な影響を与えることが一般的に認められています 6,10,11。

C8S3 DWNT のフラッシュ希釈の実験セットアップの概略図。 (A) 両親媒性 C8S3 分子の構造 (赤: 酸素、黄: 硫黄、緑: 塩素、灰色: 炭素、青: 窒素) で、さまざまな官能基が強調表示されています (青 - 親水基、オレンジ - 発色団、灰色 - 疎水基) )。 (B) 2 つのシリンジ ポンプは、DWNT 溶液とメタノールと水の混合物をマイクロ流体涙滴ミキサーに供給し、そこでフラッシュ希釈プロセスが制御された方法で実行されます。 ミキサーの出口はマイクロ流体フローセルに短絡接続されており、そこでフラッシュ希釈されたNTの吸収スペクトルが継続的に監視されます。 フラッシュ希釈された NT はフローセルの端で収集され、クライオ TEM ステーションで急速に凍結され、クライオ TEM を使用して画像化されます。 挿入図は、DWNT およびフラッシュ希釈された NT と溶解分子の視覚的表現 (Blender を使用してレンダリング) を示しています。 簡単にするために、溶媒分子は示されていません。

発色団間の強い結合により、非局在化励起、励起子が形成されます10、12。 これらはナノチューブ (NT) に沿って行き来しますが、ある NT から別の NT に移動することもあります 11。 このような NT 間のクロストークを防ぐために、フラッシュ希釈 10,13 と呼ばれるプロセス、つまり DWNT 水溶液とメタノールと水の混合物を急速に混合することによって、内部 NT を DWNT 構造から切り離すことができます。 これは、外側 NT に関連する励起子吸収ピークの消失に基づいて結論付けられたように、外側 NT の選択的溶解を可能にします (図 1B、右挿入図)。 内部 NT の光学特性のモデル化にはその構造の知識が必要ですが、構造研究 (例: クライオ TEM) は、溶解した平衡状態から外れた外部 NT 分子の急速な再集合 (数分以内 10) によって制限されます。

ここでは、マイクロ流体工学とクライオTEM(図1B)を組み合わせて、隔離された内部NTを画像化することで、この問題を解決しました。 Cryo-TEM イメージングは​​内部 NT に対して実行されました。内部 NT はマイクロ流体フラッシュ希釈後約 40 秒で急速に凍結し、再構築プロセスが妨げられました。 実験的なクライオ TEM 画像は、C8S3 NT の分子モデリングからの入力を使用して高解像度透過型電子顕微鏡 (HRTEM) ソフトウェア 14 を使用して計算された画像と比較されました。 我々は、内部NTはDWNT対応物と比較してフラッシュ希釈による影響をほとんど受けていないことを発見した。 さらに、フラッシュ希釈の潜在的な破壊性にもかかわらず、結果として得られた内部 NT の集合体は、親 DWNT と同様に構造的に均一でした。 これらの発見は、システムの光学特性を変える、自己組織化ナノ構造の内部構造の制御された変更に関する刺激的な可能性を切り開きます。

メタノールに溶解した C8S3 色素分子の原液に水を加えると (「材料と方法」を参照)、DWNT が形成されます 10,15。これは分光学的に〜70 nm (〜2300 cm-1) の強いレッドシフトによって観察されます。 ) 吸収スペクトル (図 2、青色のスペクトル)。 〜600 nm(〜16,673 cm-1)と〜590 nm(〜16,963 cm-1)の2つの狭いピークは、それぞれ内側と外側のNTの励起子遷移に対応します16、17。 580 nm 未満のショルダーは、高層の励起子遷移に起因すると考えられます16。

メタノールに溶解した C8S3 モノマー (茶色)、DWNT (青色)、およびフラッシュ希釈した NT (赤色) の吸収スペクトル。 比較の目的で、DWNT とフラッシュ希釈 NT のスペクトルは約 600 nm のピークの振幅に正規化され、モノマースペクトルは約 520 nm のピークの振幅に正規化されます。 DWNT のスペクトルと比較して、フラッシュ希釈した NT の 600 nm ピークのブルーシフトが約 40 cm-1 であることに注目してください。

フラッシュ希釈のプロセスは、マイクロ流体ティアドロップミキサーで DWNT 溶液をメタノールと水の 1:1 (v/v) 混合物と混合することによって実行されます18。 〜590 nm のピークの消失は、外側の NT10、18 の溶解に起因すると以前に考えられていました。 〜574 nm の幅広いピークは、より高エネルギーの励起子遷移に対応します 10,16。 バンドルからの寄与は、DWNT 溶液のクライオ TEM 画像ではほとんど観察されなかったため、除外できます (補足情報 I)。 さらに、バンドル 5,19 に特徴的な約 604 nm の吸収ピークはほとんど観察されませんでした (補足情報 I)。

分光データを構造データに関連付けるために、DWNT とフラッシュ希釈 NT の両方をクライオ TEM を使用して画像化しました。 さらなる分析を目的として同一のイメージング条件を確保するために、DWNT とフラッシュ希釈 NT の両方を含むクライオ TEM 画像を検討しました (図 3A)。それぞれの拡大断面図を図 3 と図 4 に示します。 3B、C。 フラッシュ希釈プロセスの全体的な有効性は 90% と高いと推定されているため、これはまれな (しかしそれ以外は便利な) 機会であることを強調します。有効性はフラッシュ希釈された NT の数とすべてのクライオ TEM 画像内の NT の総数 (補足情報 II)。 さまざまなデフォーカス条件で取得された追加のクライオ TEM 画像は、補足情報 III で分析されます。

DWNT (* でマーク) とフラッシュ希釈 NT の両方を含むクライオ TEM 画像 (A)、DWNT の拡大 (85 倍、白い楕円で表示) セクション (B)、フラッシュ希釈 NT (C) およびライン プロファイルDWNT (青) とフラッシュ希釈 (赤) NT (D)。 クライオ TEM 画像 (A) は、デフォーカス値約 1.5 μm で記録されています。 ライン プロファイルは、それぞれ長さ 22.5 nm の 30 個の TEM ライン プロファイルにわたって平均化されます (補足情報 IV) (2 つの例が白い長方形で示されています)。 ラインプロファイルは、背景が減算された後、比較のために最小値 -1 に正規化されます (補足情報 IV)。 黒い実線と破線の矢印は、使用される 2 つの指標を示します。それぞれ、境界距離とディップ間距離です。ここで、ain は内側のディップ間距離、bdw と bFD は DWNT とフラッシュ希釈 NT の境界距離です。 、 それぞれ。

DWNTとフラッシュ希釈したNTの平均線プロファイルを図3Dに示します。ここで、〜±3.5 nmの最小値を「内部ディップ」と呼びます。 境界距離は伝統的にフレネル縞とベースラインの交点から決定されます13、17、20。一方、ディップ間の距離はラインプロファイルの内側の最小値を見つけることによって確認されます10、13(図3Dおよび補足情報IV) )。 個々の TEM ライン プロファイル (つまり、22.5 nm セグメント) の境界とディップ間の距離のヒストグラムを図 4 に示します。表 1 に、DWNT とフラッシュ希釈 NT の両方の測定基準を示します。 DWNT とフラッシュ希釈 NT の均質性は、いくつかの TEM ライン プロファイルの境界と谷間の距離の分布から主張できます (図 4)。 考慮したすべてのパラメーターのヒストグラムの標準偏差 (SD) はかなり低く、それぞれの値の 5% 未満です。 これは、DWNT とフラッシュ希釈 NT の両方が、NT の長さに沿って、また互いの間でもかなり均一であることを示しています。

DWNT (A) とフラッシュ希釈した NT (B) の境界距離 (茶色) と内部の谷間の距離 (緑色) のヒストグラム。 DWNT およびフラッシュ希釈 NT については、全長約 0.7 μm の 30 本のライン プロファイルが考慮されました。 各ライン プロファイルは 22.5 nm 長にわたって平均され、4 つ (DWNT) または 2 つ (フラッシュ希釈 NT) のガウス分布でアドホックに適合され、そこから平均位置が抽出されました (補足情報 IV)。 ヒストグラムのパラメーターを表 1 に示します。

DWNT の境界距離 13.6 ± 0.4 nm は、文献 6、13、21、22 で発表されている値と一致します。 DWNT とフラッシュ希釈 NT の境界距離の差から評価した壁の厚さは (13.6–10.2)/2 = 1.7 nm であり、これは相互嵌合を考慮した C8S3 分子のサイズ (約 2 nm) とよく一致します23。脂肪族尾部21. 言い換えれば、フラッシュ希釈されたNTの境界距離は、外層が除去されたDWNTの境界距離に対応しており、これは内部NTがフラッシュ希釈後もそのまま残っていることを強く示唆しています。

クライオ TEM の文献 13、20、21、24 で使用されているさまざまな測定基準 (境界距離やディップ間の距離など) は、(分子) マクロ構造 21 に関連付ける際には細心の注意を払う必要があります。ピントのぼけ具合が異なります。 一般に、TEM 画像の山と谷は、(投影された) 電荷または質量密度の高低に対応すると直接解釈することはできません 25。文献には、多層カーボン ナノチューブにおける「ゴースト」チューブの出現の例が示されています 26。 したがって、ナノチューブの分子構造と低温 TEM 画像との間に関連性を持たせる必要があります。 この目的のために、単壁 (SW) セクションと二重壁 (DW) セクションから構成される原子分子モデル (以降、「サンプル」と呼びます。詳細については「材料と方法」を参照) を使用しました。水に溶解したもの。 この構成に対応する一連の高解像度 TEM (HRTEM) 画像は、プログラム スイート abTEM14 を使用したマルチスライス アルゴリズムで生成され、ナノチューブ軸に垂直なライン プロファイルが取得されました (詳細については、「材料と方法」を参照)。 。

図 5A、B はそれぞれ、分子モデルの管状構造に配置された C8S3 分子とサンプルのシミュレートされた HRTEM 画像を示しています。 DW および SW セクションのシミュレートされた HRTEM ライン プロファイル コントラスト、および原子モデル (すべての溶媒と対イオンを含む) の投影核電荷密度 (詳細については補足情報 VII を参照) の対応するプロファイルを図に示します。それぞれ5C、D。 DW セクションと SW セクションの投影核電荷密度は密接に重なり、密度のピークは管の中心からほぼ同じ距離 (約 3.3 nm) にあります。 さらに、投影された核電荷密度の内側の最大値の位置(破線で示す)は、内側のくぼみの位置(すなわち、〜±3.5 nmの線プロファイルの最小値)にかなり近い(0.5 nm以内)。 DW セクションと SW セクションの両方 (図 5C、D)。

C8S3 NT の分子モデル (A)、1.2 μm の焦点ずれでシミュレーションした HRTEM 画像 (B)、DW (青) (C) および SW (赤) セクション (D) の平均コントラスト ライン プロファイルとそれぞれの投影核電荷密度 (ρn)。 分子モデル (A) とシミュレートされた HRTEM 画像 (B) は、DW セクションと SW セクションの両方を示しており、後者ではそれぞれ青と赤の長方形で強調表示されています。 シミュレートされた HRTEM 画像からのそれぞれ 20 nm の 5 つのライン プロファイルが平均され、7 つの点 (C、D) にわたって移動平均を取ることによって平滑化されます。 ラインプロファイル (投影核密度) は、比較を容易にするために最小 (最大) 値 -0.5 (+ 1) に正規化されています。 パネル (C) と (D) では、破線はライン プロファイルの内側のくぼみ (~ ± 3.5 nm) の位置を示しています。これは、投影されたプロファイルの内側の最大値の位置にかなり近い (0.5 nm 以内) です。核密度。

実験的なクライオ TEM 画像から得られた DWNT とフラッシュ希釈 NT のコントラスト ライン プロファイル (図 3D) は、シミュレートされたライン プロファイル コントラスト (図 5C、D) によく似ています。 ラインプロファイルの全体的な形状はよく再現されており、内部のくぼみは実験 (DWNT および瞬間希釈 NT の場合、図 4、緑色のヒストグラム) と理論 (DW および SW サンプルの場合、図 5C、 D)。 SW セクションは、内側 NT の分子構造を変えることなく、外側 NT の分子を単に除去することによって得られたことに注目して、フラッシュ希釈は内壁に影響を及ぼさないと結論付けます。 ディップの位置は、デフォーカスの値が異なるとわずかに変動します(補足情報 III、図 S8)。 それにもかかわらず、SW セクションと内側 DW セクションでもほぼ同じ方法でこれを行います(補足情報 III、図 S9)。 特定のデフォーカス値 (理論計算では 1.2 μm、実験では約 1.5 μm) と距離スケーリング (実験と計算の間で約 10%、明示的には示されていない) の偏差は、サンプルの厚さ、有限の横方向コヒーレンスの違いによるものである可能性があります。電子ビームの精度とマルチスライス法で使用されるポテンシャルの精度。 それにもかかわらず、シミュレーションされた HRTEM 画像に見られる一般的な傾向は、内壁がフラッシュ希釈しても無傷で生き残るという我々の結論を裏付けています。

最後に、フラッシュ希釈後の内部NTの吸収スペクトルで観察された、小さいが顕著な〜40cm-1のブルーシフトについてコメントします(図2)。 このブルーシフトは以前、フラッシュ希釈後のNT内径の変化18、または励起子のナノ閉じ込めによるNTの長さの短縮(100 nm以下)のいずれかに起因すると仮説が立てられていた27。 ここに示すように、フラッシュ希釈プロセスは内部 NT を変更しません。 さらに、クライオTEMグリッドの視野を考慮すると、フラッシュ希釈したNTの長さに大きな変化は観察されませんでした(補足情報V、図S12)。 後者の発見は、マイクロ流体チャネル内のフラッシュ希釈された NT の高度な幾何学的整列に基づく以前の結論を裏付けるものです 18。 したがって、青色のスペクトルシフトは、内側の NT が溶媒に直接さらされ始め、周囲の誘電率の変化を引き起こすためである可能性が最も高くなります。 これは、DWNT システムに対する溶媒の影響に関する以前の発見 5 と一致しており、アルコール ルートで調製された DWNT の吸収スペクトルは、直接ルート (つまり、溶媒中にメタノールが存在しない) で調製された DWNT と比較して青方偏移していました。 。

マイクロ流体工学、光学分光法、およびクライオTEMを使用することにより、強い非平衡条件下で外部NTが再形成される前の一時的な内部NTを画像化することができました。 実験的なクライオ TEM 画像を、C8S3 NT システムの分子モデリングから得られたシミュレートされた HRTEM 画像と比較しました。 2 つの間の密接な一致により、内部 NT はフラッシュ希釈後も変化しないと結論付けることができました。 内部 NT の高い均質性はフラッシュ希釈プロセスでも維持されることも示されており、これはフラッシュ希釈が外部 NT のみを選択的に溶解し、内部 NT の分子構造はほとんどそのまま残されることを証明しています。 この結論は、外側NTが再形成し始める前に内側NTに追加のナノ構造(量子ドットなど)を導入し、壁間の電子結合や励起子の拡散長を変えるための新たな研究経路を開くものである。

C8S3 色素 (3,3'-ビス(2-スルホプロピル)-5,5',6,6'-テトラクロロ-1,1'-ジオクチルベンズイミダカルボシアニン、MW = 903 g/mol) は、FEW Chemicals (Wolfen, Germany) から購入しました。 )、受け取ったまま使用されました。 C8S3 DWNT は、参考文献 5 に詳述されているアルコール経路を介して調製されました。 簡単に言うと、C8S3 色素分子をメタノール (Biosolve BV) に溶解することにより、2.32 mM モノマーストックを調製しました。 続いて、ミリQ水をモノマー原液に1:0.26(v/v)の比率で添加した。 オレンジ色からピンク色への色の変化が即座にありました。これは、モノマーの自己集合が DWNT の形成をもたらしたことを示しています。 得られた溶液を暗所、室温で 15 ~ 18 時間保存しました。 これに続いて、1 mLのmilli-Q水を加え、最終C8S3色素濃度が0.267 mM、DWNT溶液中9%(w/w)メタノールとなった。

フラッシュ希釈は、ホウケイ酸塩マイクロ流体ティアドロップミキサー (Micronit) 内で DWNT 溶液をメタノールと水の混合物 (1:1 v/v) と混合することによって実行されました。その幾何学的形状により、低いレイノルズ数での制御された効率的な混合が保証されます ( RE < 100)、フラッシュ希釈プロセスの開始が明確に定義されています。 2 台のシリンジ ポンプ (New Era、モデル NE-300) を使用して、DWNT 溶液とメタノールと水の混合物をそれぞれ 1:1.6 の流量比、総流量 2.6 mL/h でマイクロ流体ミキサーに送り込みました。 混合後、フラッシュ希釈されたNTはマイクロ流体フローセル(Micronit)に流れ、そこで吸収スペクトルがコンパクトでポータブルな自作の吸収セットアップで常に監視されました。このセットアップはクライオTEM凍結装置の近くで操作できます。駅。 光源として白色 LED ライトと Ocean Optics USB-400 分光計を使用しました。 試薬がミキサーからフローセルの端まで流れる合計時間は、約 10 秒でした。 フラッシュ希釈された NT はフローセルの端で収集され、収集後 30 秒以内に急速に凍結されました。

フラッシュ希釈した NT は、フラッシュ希釈プロセスの開始から約 40 秒後に凍結されました (参考文献 13 に記載のプロトコールに従って)。 まず、約 3 μL のフラッシュ希釈 NT を、穴のあいたカーボン フィルム (quantifoil 3.5/1) を備えた親水化銅グリッド上に堆積しました。 次に、余分なサンプルを 5 秒間拭き取り、サンプルの薄層 (約 100 nm) を形成しました。 続いて、Vitrobot (FEI アイントホーフェン) を使用して、液体エタン中で -184 °C でグリッドを急速にガラス化しました。 イメージングには、200 keV で動作する LaB6 陰極を備えた FEI Tecnai T20 透過型電子顕微鏡を使用し、ガラス化グリッドをクライオトランスファー ホルダー (Gatan モデル 626) に配置しました。 低温 TEM 画像は、UltraScan 4000 UHS CDD カメラ (Gatan、プレザントン) を低線量モードで使用して記録しました。 DWNT とフラッシュ希釈 NT のそれぞれ 4 つのサンプルを、異なる焦点ぼけと倍率で画像化しました。 これらのうち、DWNT の 2 枚の顕微鏡写真とフラッシュ希釈された NT の 3 枚の顕微鏡写真が本文および補足情報で任意に使用されました。 報告された画像で使用されている倍率値 100,000 × (特に明記されていない限り) では、空間分解能は約 0.5 nm と推定されますが、顕微鏡のデフォーカス値の不確かさは約 0.5 μm です。 追加のイメージングパラメータを表 2 に示します。

クライオ TEM 画像は Fiji Image J2 ソフトウェアで分析されました。 詳細については補足情報 IV で説明します。

Bondarenko et al.28 の C8S3 ナノチューブ モデルは、シミュレーションの開始構造として使用されました。 この特定のモデルは、C8S3 ナノチューブの実験的な吸収スペクトルを再現し、100 ns の生成段階中にその管状構造を維持しました。 C8S3 ナノチューブを構築するプロセスは、さまざまな単位セルから 2D 格子を作成し、それらを特定の半径と回転角度で円柱に回転させることに基づいていました (詳細については、補足情報 VI を参照)。 このモデルの内壁円筒の半径は 3.72 nm、転がり角は 30.96°でしたが、外壁円筒の場合、これらの値はそれぞれ 5.49 nm と 31.53°でした。 詳細は参考文献 21, 28 に記載されている。

ライン プロファイルのコントラストを計算するために、長さ 20 nm のナノチューブ片が C8S3 ナノチューブ モデル (元は 75 nm) から切り取られました。 次に、ナノチューブの下半分のC8S3分子を除去した。 得られた構造は、露出した10 nmのC8S3インナーチューブに結合した10 nmの完全なC8S3ナノチューブを構成しました(図5A)。 切り取られたナノチューブは、40 × 40 × 40 nm ボックスの中心で溶媒和され、Na+ イオンがシステムの電荷を中和するために追加されました。 チューブの内壁の寸法が SW セクションと DW セクションで同じであることを確認するために、内壁 C8S3 分子の発色団に位置制限を適用しました。 C8S3 分子の総数は 1068 (内部 NT: 604 & 外部 NT: 464)、原子の総数は 6,807,144 でした。 詳細については、補足情報 VI および参考資料 21、28 を参照してください。

モデル内のすべての原子 (合計約 680 万個) の原子位置を使用して、abTEM パッケージ 14 のモジュールを使用して、実空間分解能 14 の平面波を数値的に伝播することにより、シミュレートされた高解像度 TEM (HRTEM) 画像を生成しました。マルチスライスアルゴリズムを使用した静電ポテンシャル全体で 1.0 オングストローム29。 原子ポテンシャルの Lobato パラメータ化 30 が使用され、スライス厚は 0.1 オングストロームで、スライス上の平面波の方向に正確に積分されました。 その後、出射波は、コントラスト伝達関数 (CTF) を適用することによって HRTEM 画像に変換されました。 CTF 設定は実験で使用した電子顕微鏡の設定に近かった (補足情報 VII を参照) が、焦点ぼけを変更しました。 SW および DW セクションのライン プロファイル コントラストは、SW および DW セクションの管全体にわたる長さ 20 nm の 5 つのライン プロファイルを平均することによって画像から生成されました。 核電荷密度プロファイルを取得するために使用される方法は、補足情報 VII で詳しく説明されています。

この研究中に生成または処理されたすべてのデータは、合理的な要求に応じて責任著者から入手できます。

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フラッシュ希釈後の内部 NT の画像化に挑戦してくれた H. von Berlepsch に感謝します。 クライオ TEM 画像の解析に関する有益なアドバイスを提供してくださった BJ Kooi 氏、一般的なラボ支援を提供してくださった F. de Haan 氏、および abTEM パッケージを使用した TEM 画像シミュレーションに関するフィードバックを提供してくださった J. Madsen 氏に感謝いたします。 原稿の初版を読んだ際に意見を提供してくれた B. Kriete と TLC Jansen に感謝します。 MSP と SRK は、Wetenschappelijk Onderzoek によるオランダ機構 (NWO、プロジェクト OCENW.KLEIN.356) からの財政的支援を認めます。

ゼルニケ先端材料研究所、フローニンゲン大学、Nijenborgh 4、9747 AG、フローニンゲン、オランダ

サンダー・ラージ・クリシュナスワミ、イーヴォ・A・ガブロフスキー、マキシム・S・プシェニチニコフ

フローニンゲン生体分子科学およびバイオテクノロジー研究所、フローニンゲン大学、Nijenborgh 7、9747 AG、フローニンゲン、オランダ

エリアス・パトマニディス、マーク・CA・スチュアート、アレックス・H・デ・フリース

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MSP と SRK がプロジェクトを考案しました。 IAG と SRK はサンプルを準備し、瞬間希釈実験を実施しました。 MCAS は急速希釈した NT を急速凍結し、クライオ TEM 画像を取得しました。 データは SRKIP によって分析され、AHdV は DWNT の分子モデルを開発し、ライン プロファイルのコントラストを計算しました。 原稿は SRK、AHdV、MSP によって執筆され、すべての著者の協力を得ています。

マキシム・S・プシェニチニコフへの通信。

著者らは競合する利害関係を宣言していません。

シュプリンガー ネイチャーは、発行された地図および所属機関における管轄権の主張に関して中立を保ちます。

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転載と許可

クリシュナスワミ、SR、ガブロフスキー、IA、パトマニディス、I. 他平衡状態から外れた人工集光複合体の極低温TEMイメージング。 Sci Rep 12、5552 (2022)。 https://doi.org/10.1038/s41598-022-09496-z

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受信日: 2021 年 11 月 11 日

受理日: 2022 年 3 月 24 日

公開日: 2022 年 4 月 1 日

DOI: https://doi.org/10.1038/s41598-022-09496-z

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